Lightmapper QML Type

启用基于表面法线的额外动态偏置。

默认值为 true。

烘焙过程中使用的光投射偏置。调整该值以防出现伪影，例如减少不希望出现的阴影模式。在很多情况下，默认值已经足够。

默认值为 0.005。

每个样本间接光反弹的最大次数。该值至少应为 1，否则没有必要计算间接光。

默认值为 3。

在光贴图烘焙过程中，该值会严重影响光贴图的性能和质量。

通常情况下无需更改此值。默认值为 true。将此属性设置为 false 会在光贴图绘制过程中禁用间接光计算。因此生成的纹理贴图将只包含直接光线信息。在运行时，引擎将继续正常使用贴图，假定它们同时包含直接和间接光照。

间接光量的乘数。虽然 1 的值（即不影响间接光量的计算）能提供严格意义上正确的渲染结果，但在使用光贴图时，即使反弹次数较少，稍高的值通常也能带来更好的效果。

默认值为 1。

样本工作组的大小。尝试并行执行这些工作组。(具体行为取决于 CPU 内核数和QThreadPool 配置）。

默认值为 32。默认样本数为 256，这意味着每个模型将尝试并行运行 8 个工作组。

不透明度（alpha）阈值，在通过光线追踪计算光照时，如果物体的不透明度低于阈值，则在光线与网格交汇处会被忽略。当不透明度低于阈值时，模型（子网格）不会遮挡光线，因此也不会产生阴影。

默认值为 0.5。

每个光贴图像素的样本数。

默认值为 256。

该值会严重影响光贴图烘焙过程中生成的光贴图的性能和质量。